半导体生产中所需的超纯水设备又是如何清洗保养的？

　　随着人工智能、物联网等新兴市场的不断发展，全球半导体行业市场规模整体呈现增长趋势。半导体作为一种在常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的一类材料，在集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电、照明应用等领域中应用良多。

　　这样的半导体在生产中除了一道道工序外，还需要超纯水设备的应用来制备清洗用水，在长期应用中许多用户都有面临一些问题，例如设备如何保养才能延长寿命，又或者是超纯水设备停用应该如何是好?今天我们就来解答一些关于超纯水设备如何清洗保养。

　　具体情况如下：

　　1、将专用清洗液与处理后的纯水在清洗药箱内混合。

　　2、用清洗泵低流量将清洗液以低流速、低压力打至反渗透系统，并排走原水，防止清洗液稀释。

　　3、保持设备温度稳定，用清洗泵将清洗液在系统中循环。

　　4、清洗液在设备内浸泡一小时即可，污染较严重的反渗透膜可进行更长时间的浸泡清洗。

　　5、用清洗泵大流量打入清洗液30—60分钟，使反渗透膜上被洗掉的污染物随高流速水冲走。

　　6、用清水将清洗液冲去。设备冲洗后的清水需要保证PH6.5-7.5之间。

　　以上就是全文。关于半导体生产中应用的超纯水设备除了上述的清洗保养问题外，在使用与安装过程中也都需要很注意，需要严格按照规范或者专人指导来操作，这样才能保障设备的安全性和出水的稳定性。

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　　编辑：柒柒   技术：米