如何产出高质量的半导体超纯水？

　　超纯水的产生是应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术所生产出来一种水。这种水不仅可以应用在电子行业，在半导体行业中也是应用较多。

　　在半导体加工过程中，需要大量的超纯水，传统的超纯水制备方法主要有蒸馏法和离子交换法。随着半导体工业的不断发展，对清洗水的电导性、离子含量、TOC、DO、Particles要求也越来越严格，传统的制备方法如今逐渐不在适用该产业的生产需求了。

　　由于半导体用超纯水对多项指标的高要求，所以在半导体行业，超纯水不同于其他行业对水的要求，半导体行业对超纯水有极为严格的水质要求。

　　半导体行业超纯水质量会有哪些要求?

　　半导体所用的超纯水需要达到的水质标准为：我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)，我国电子工业部高纯水水质试行标准，国内外大规模集成电路水质标准等。

　　如何产出高质量的半导体超纯水?

　　建议采用“两级RO+EDI+精混床除盐水处理工艺”这类的超纯水设备，可保证处理后的水电阻和电电阻达到18MΩ.CM以上。该出了采用以上工艺外，结构设计也需要相对紧凑，这样一来占地面积小可为企业节省大量建设空间。这种半导体超纯水设备出厂前都是需进行压力测验的，所以出现故障概率小。还可以还配备了反渗透预脱盐技术，再次从根本上确保了水处理设备的出水质量。

　　以上，就是关于半导体行业所需超纯水相关问题的全部介绍了。感谢您的阅读，我们下期不见不散!