探索超纯水的绝对纯度，满足半导体行业用水需求

　　目前,我国国家电子级水(高纯水)标准将“高纯水”分为四个等级,分别为电阻率18MΩ·cm以上、15MΩ·cm、12MΩ·cm、0.5MΩ·cm;美国ATSM根据超纯水电阻率18.3MΩ·cm的理论极限值,将18.1MΩ·cm以上的超纯水用水标准再细化为四个细分等级,成为当前电子和半导体行业常规参考的用水要求。

　　由此可见,生产芯片的用水并非日常可见的自来水,或者是纯净水,半导体工厂生产和清洗半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示器、高精度电路板、光电器件等各种电子器件的时候，都需要用到电阻率为18兆欧以上的超纯水,这样的超纯水几乎不导电，不会影响电子产品的性能，同时水中几乎不含金属离子，不会对复杂芯片表面造成划痕或者不可逆的影响。当集成电路的集成度越高，线宽越窄，对水质的要求也就越高。

　　超纯水设备是采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理等方法，将水中的导电介质几乎完全去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水处理设备。莱特莱德超纯水设备能够连续稳定地制备高质量的超纯水，不会因树脂再生而停止运行。设备内部还安装有反渗透预脱盐技术，再次从根本上确保了设备的出水质量。同时，EDI处理装置废水产量少，不会污染环境，具有很高的环境效益和经济效益，具有广阔的发展前景。

　　伴随芯片市场的崛起,也为超纯工艺技术企业带来广阔的机遇与挑战,科技不断探索超纯水的绝对纯度，产水水质接近绝对纯度,电导率无限接近18.24MΩ•厘米的理论极限值,其纯度可达99.9999999999%,不断满足半导体行业日趋提升的用水需求。