光学领域蓬勃发展少不了超纯水设备的助力

　　随着光学领域对水质要求的不断提高，超纯水的纯度已成为影响光学器件质量、收率和成本的重要因素之一。可以说，超纯水设备的性能直接影响超纯水的质量。

　　在晶体管和集成电路的生产中，超纯水的主要用途包括清洗硅片，少量用于制备药液、氧化硅的水蒸气源、一些设备的冷却水以及电镀溶液的制备，集成电路的质量和收率息息相关。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜的耐电压性能恶化，重金属(AU、Ag、Cu等)会降低PN结的电压电阻，III类元素(B、Al、GA等)会破坏n型半导体的特性，V族元素(P、AS、Sb等)会破坏P型半导体的特性。细菌在水中(约为灰分的20-50%)对磷进行高温炭化，可使局部p型硅变为n型硅，导致器件性能下降。如果水颗粒(包括细菌)吸附在硅片表面，会导致短路或性能下降。

　　传统的超纯水处理工艺为单级/双级反渗透设备+混床。其缺点是需要再生，不能连续产水，不仅效率低，而且浪费资源。莱特莱德经过多年实践，同时结合膜分离技术，采用反渗透加离子交换系统(或EDI)相结合的工艺来制取超纯水。与传统工艺相比，该工艺具有运行成本低的优点(离子交换器的再生周期大大延长)，运行可靠。莱特莱德超纯水设备出水水质符合行业用水标准。

　　莱特莱德超纯水设备除了应用在光学领域外，在电子、电力、造纸、日化等领域都有着广泛的应用，具有广阔的应用前景。莱特莱德专注电子超纯水领域，是集研发设计、设备制造、工程施工、运营维护为一体的环保解决方案服务商。