国产半导体行业前景广阔 超纯水设备成为重要基石

　　经过国内厂家多年的追赶，我国集成电路关键装备已形成一定的支撑能力，国内半导体设备已完成从“从0到1”的突破。

　　由于供不应求，自2020年底以来，半导体集成电路产能持续紧张，导致制造、封测价格上涨，芯片交付周期延长。在产能短缺的背景下，半导体行业预计将大规模扩大生产，推动对半导体制造设备的强劲需求。另一方面，半导体设备的进口一直受到限制，因此国内半导体设备的替代前景非常广阔。

　　超纯水设备成为半导体行业重要推动力

　　半导体的制造是在一级洁净度(每立方英尺的空气中只能有一粒直径小于0.3微米的灰尘)的环境中进行的，这表明了半导体元件在生产过程中对洁净度的要求有多严格。在芯片生产过程中，影响其品质的不止有空气，还有水质。因此，在大力发展半导体的同时，我国对其水质也提出了更高的要求。可以说，超纯水设备已成为半导体行业的重要驱动力。

　　超纯水的生产流程是怎样的?

　　自来水进入原水箱，通过原水泵增压，经砂滤器、炭滤器、阻垢剂加药、保安过滤器，到达反渗透单元，经两级反渗透过滤进入EDI单元，抛光混床单元，EDI出水进入纯水水箱，此时水质的电阻率是15兆欧，经过抛光混床后，产水电阻率达到18兆欧，但是不进入水箱，直接进入用水点。因为水箱中若出现产水滞留，会影响产水水质。纯水供水设计为循环方式，经纯水供水泵增压，通过紫外线消毒器、抛光混床接入纯水供水管，到达使用点。

　　超纯水设备作为半导体工业生产的重要基石，莱特莱德超纯水设备改进了传统工艺阶段供水的缺点，配备了专业的浓水置换技术，防止膜系统受到微生物污染。通过完善的技术，提高系统回收率，降低能耗和运行成本。能有效去除水中的杂质、重金属离子、细菌等有害物质，实现超纯水的大量连续供应。可满足芯片生产用水的相关标准，降低企业生产风险和成本。