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EDI超纯水设备具有较高的性价比和设备可靠性。出水水质除水分子外几乎不含杂质，电阻率可达18mΩ·cm，满足芯片生产用水需求。...
EDI超纯水设备是一种纯物理过程的制备技术。整个工艺出水阻力可达18mΩ·cm(25℃)，具有长期不间断运行、自动运行、操作简单、水质稳定、无污染物、成本低等特点。...
超纯水制备采用反渗透技术+EDI超纯水设备+抛光混床系统，其出水阻力可达18mΩ·cm(25℃)，具有长期不间断运行、自动运行、操作简单、水质稳定、无污染物、成本低等特点。...
超纯水设备具有连续运行性，不需要再生产;结构紧凑、管理分布合理、简单;无酸碱处理，节能环保;采用洁净循环管道，确保系统内无死水。...
超纯水系统采用反渗透技术+EDI+抛光混床系统制备超纯水。它是一种纯物理过程的制备技术。其出水电阻可达18mΩ·cm(25℃)，具有长期不间断运行、自动运行、操作简单、水质稳定、无污染物、成本低等...
超纯水是指电阻率为18MΩ·cm(25℃)的水，除水分子外几乎没有杂质，完全满足芯片生产用水需求。...
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