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超纯水设备能够连续稳定地制备品质优良的超纯水，其占地非常小，可以为企业节省很多空间，在符合硅晶圆生产用水水质标准的同时可以使水资源的利用率达到≥80%，有效提升了水资源利用率。...
莱特莱德·环境与大家相聚于这场盛会，我们共同探讨行业前沿技术，共创新机遇，共谋合作机会，在此次大会中感受到半导体行业的生命力。...
超纯水设备可生产出芯片生产过程中的清洗用水超纯水，保证了芯片的良品率。采用双反渗透、EDI、抛光混合床相结合的制水工艺，具有水利用率高、运行可靠、经济合理等特点。...
莱特莱德超纯水设备具有出水连续、无酸碱再生、无人值守、安装简单、操作方便等优点。出水水质符合半导体行业相关标准。...
莱特莱德超纯水设备生产的超纯水的电阻率可达到18MΩ*cm(25℃)，完全符合集成电路清洗用水要求。...
芯片产业应用的超纯水设备摒弃了传统工艺，核心是采用的膜分离技术，应用反渗透工艺与EDI和精处理混床工艺来生产超纯水，不仅产水量增加，出水水质能够满足ASTM D5127-13中E1.3标准， 满足了芯片行业用水...
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