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国产芯片生产离不开高质量的超纯水

2023-01-03

　　在近几年科技的不断发展与进步中，我国国产芯片的成长速度也是有目共睹的，芯片制造业也成为了“爆款”产业。这样一来芯片的生产量开始大幅度上涨，今天我们要了解的就是芯片生产中的超纯水制造。

　　芯片生产离不开清洗用水——超纯水的制造。

　　芯片生产所需的清洗用水为电阻率大于18MΩ*cm，接近于18.3MΩ*cm的超纯水。这种超纯水的制备过程比较复杂，为了达到芯片生产的用水要求，制备超纯水的设备需要经过严格的检测。

超纯水设备

　　据了解，传统超纯水制备过程中通常采用离子交换树脂，此工艺需要进行树脂再生，既耗费物力又耗费人工。目前，为了更好地节省人工和耗材，人们开始采用RO反渗透技术和EDI相结合的工艺，从而来制备超纯水。

　　目前这种超纯水设备与传统工艺相比，不仅投入的运行成本低且人工成本也是很低的，并且设备的整体集成化程度高、自动化程度高，遇故障可以实现立即自停，具有自动保护功能。而且该设备应用的膜技术，具有较高的溶质分离率和透过率，可以高效产出高品质超纯水。

　　综上，我们了解到，超纯水设备出水电导率可达18.2mΩ，大大的满足芯片行业用水需求，是该行业清洗用水的重要保障。