超纯水去硼是半导体行业的关键

　　制造半导体需要经过8个主要步骤。超纯水主要用于半导体制造过程中的某些步骤前后的清洗。比如，蚀刻后，切割晶片，然后用超纯水清洗残留物。另外，离子注入后，可以清除残留离子。另外，也可以用来对晶片进行抛光和切割。​

　　超纯水是在半导体生产过程中使用的一种清洁剂。所以，使用超纯水对半导体生产有什么影响呢?采用纳米超精细工艺加工半导体时，如果在不同工艺过程中留有一小粒粒子，将引起误差。所以，在不同的工艺中，用超纯水清洗晶片，能够保证洁净度，并提高半导体的生产率(输出)。

　　伴随着半导体工业的发展，对洁净水的电导率、离子含量、TOC、do、微粒的要求也越来越高。在很多方面，超纯水对半导体提出了很高的要求，所以在半导体工业中，超纯水和其他行业是不一样的。在超纯水领域，半导体工业对水质要求非常严格。当前，国内普遍采用的超纯水标准(GB/T11446.1-2013)和国家标准“电子级水”。

　　硼是半导体生产过程中的一种p型杂质。过多将导致n型硅倒转，从而影响电子和空穴的浓度。在超纯水工业中，对硼的去除应该给予足够的重视。在硼离子美标中，e1.3要求小于0.05。当硼离子含量达到较低的指标时，半导体性能必然得到改善。

　　Huncotte系统选用核级树脂，通过独特的目标离子交换树脂，能有效地控制出水中硼离子含量。用IPC-MS法测定硼离子含量，对硼离子流出物的分析≤0.005μG/L，远远低于美标E1.3中所要求的硼离子含量。