芯片作为中国电子的“灵魂”核心技术,是“互联网+”发展过程中不可或缺的重要要素,在我们日常生活中,网络通讯、电脑、汽车电子等都可以见到它的身影。
集成电路是电子产品中的重要组成部分,其对水中离子含量的要求非常高,几乎每一道工序都要用超纯水清洗,其中离子含量对产品有很大的影响。但目前的技术中,经常存在水质运行不稳、杂质去除不彻底、运行成本高等问题,这也对超纯水工艺提出了更高的要求。
超纯水可分为国家标《电子级水》和美标《电子和半导体超纯水质标准》。可为用户提供质量更优的超纯水,解决了以上述纯水清洗芯片存在的问题,不仅解决了生产成本高、去除杂质不彻底、生产水质不稳定产生污染的问题,能更好的提升芯片的良品率。
工艺流程:
原水进水→石英砂过滤器→活性炭过滤器→一级RO→二级RO→反渗透产水箱→紫外线杀菌器→EDI系统→氮封水箱→TOC脱除器→脱气系统→抛光混床→终端过滤器→用水点
工艺优势:
1、超纯水设备可以连续、稳定地生产高纯度超纯水,不需要停止使用树脂再生。
2、采用抛光混床搭载靶向除硼技术,保证出水硼离子能稳定≤5ppt。
3、系统集成度高,双操作系统,系统稳定性更高。
4、日常保养维护简单方便,设备耐用,寿命长。
莱特莱德拥有多项超纯水专用膜核心技术,专业量身定制水处理方案,可使水质达到18.2MΩ,完全符合电子行业的用水要求。莱特莱德超纯水设备的工艺是根据进水水质、出水要求的不同而设计的,针对不同水质特点设计超纯水设备方案,才是经济有效的方案,也是出水水质长期稳定达到要求的保证。
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