现如今,信息技术加速迭代发展,电子芯片的发展成为了各界关注的焦点。随着我国越来越多的产业生产离不开芯片,人们开始认识到芯片生产的重要性,而芯片的生产离不开超纯水,今天我们就来介绍芯片生产需要超纯水是如何制备的。
据了解,一颗芯片要经过几十道工艺技术,每一道工艺或许都是代表着高科技水平,因此芯片在生产过程中对于用水水质的要求是非常高的,水中的杂质对芯片的影响非常大。而超纯水是指电阻率达到18 MΩ·cm的水,这种水中除了水分子外,几乎没有什么杂质,完全满足芯片生产用水需求。
那么,传统的超纯水制备工艺通常是采用离子交换树脂进行制取,但采用离子交换树脂通常需要定期进行树脂再生,即耗费物力又浪费人工。目前,市面上主要采用的反渗透技术、EDI技术和抛光混床技术来制备超纯水,该工艺与传统工艺相比具有抗污染能力强、节能环保、产水水质稳定、脱盐率高、系统内无死水等优势。
使用上述工艺的超纯水设备还具有良好的实用价值,可实现自动控制,从某种程度上而言,可以有效的达到我国电子级水质标准,具有自动化程度高,过程易实现自动控制,产水水质稳定等优势。
综上,随着芯片研发技术的加快,我国要做的就是摆脱芯片进口依赖,加强相关产业的发展,为未来芯片技术的发展打好坚实的基础。
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