半导体产业下的超纯水设备都会应用到哪些工艺？

　　半导体是电子产品的核心元件，无论是PC、消费类电子、手机、汽车电子等行业中，半导体都是重要组成部分。随着半导体产业深度复苏,半导体产能或爆发性增长，伴随而来的就是其下游需求开始增长，带动了超纯水设备的市场需求增多。

　　超纯水设备市场中应用较多的当属应用反渗透工艺、EDI工艺和抛光混床工艺的超纯水工艺。设备中的反渗透工艺指的是利用反向渗透原理，达到有效除去水中溶解盐类、有机物、胶体、大分子物质等，降低水中的离子含量的工艺;而EDI模块的应用，使得设备整体运行可以无需酸碱再生，降低运行成本，该模块的应用让整体设备可连续工作，稳定产出水，出水电阻率≥15MΩ·CM;抛光混床工艺就是一个专门用于高纯度的水处理系统中的终端精制器，能够将水中的离子含量降到低于1PPT，出水电阻率可达18.2MΩ·CM。

　　这类超纯水设备性能优势突出，能够连续稳定的制备品质优良的超纯水、不会因为树脂再生而停止运行、设备结构设计相对紧凑、占地面积小等等。还有较为重要的一点便是，该超纯水设备内部安置的反渗透预脱盐技术，从根本上保障了超纯水出水水质，不会对环境造成污染，对于保护环境来说有着重要的意义。

　　在半导体产业健康发展下，超纯水设备也在不断应用中进行改良，超纯水设备作为一种确保半导体高效生产的设备，未来发展将会一片坦途!

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　　编辑：柒柒   技术：米