半导体行业应用超纯水设备 很有必要

　　半导体行业是一个高能耗的行业。在半导体产品制造过程中，由于生产设备的精密性和生产工艺的复杂性，对其配套设施提出了很高的要求，尤其对作为半导体行业血脉的超纯水系统更是高之又高。

　　 在芯片生产中，超纯水主要用于清洗硅片，少量水用于药水配制、硅片氧化的水蒸气源、部分设备的冷却水、电镀液的配制。集成电路产品的质量与产量密切相关。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良，重金属(Au、Ag、Cu等)会使PN结耐压降低，III族元素 (B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化，V族素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化，水中细菌高温碳化后的磷(约占灰分的20%~50%) 会使P型硅片上的局部区域变化为N型硅而导致器件性能变坏。水中的颗粒(包括细菌)如吸附在硅片表面，就会引起电路短路或特性变差。可见，超纯水在半导体行业中的必要性。

　　传统的超纯水处理工艺为单级/双级反渗透设备+混床。其缺点是需要再生，不能连续产水，不仅效率低，而且浪费资源。莱特莱德经过多年实践，同时结合膜分离技术，采用反渗透加离子交换系统(或EDI)相结合的工艺来制取超纯水，该工艺与传统工艺相比具有运行成本低的优点(离子交换器的再生周期大大延长)，运行可靠。莱特莱德超纯水设备出水水质符合美国ASTM D5127电子及半导体业用纯水水质TypeE-1.2，高于中国国家电子级超纯水标准GBT11446.1-1997EW-Ⅰ标准。

　　莱特莱德超纯水设备在设计上采用成熟、可靠、自动化程度高的两级RO+EDI+抛光混床除盐水处理工艺，确保处理后出水电阻率达到18 MΩ.CM以上。设备内部还安装有反渗透预脱盐技术，再次从根本上行保障了设备的出水水质，与此同时，EDI处理装置废水产出量少，不会对环境造成污染，有非常高的环境效益、经济效益，其发展前景广阔。