超纯水设备为集成电路产品规模增长助力

　　“十三五”时期，我国创新型国家建设成果丰硕，在载人航天、超级计算、量子信息等领域取得一批重大科技成果。且在多重限制之下，半导体、5G通信等领域发展快速，市场持续增长。“十四五”规划指出要制定科技强国行动纲要，健全社会主义市场经济条件下新型举国体制，打好关键核心技术攻坚战，提高创新链整体效能，对解决半导体行业“卡脖子”问题和发展量子信息、人工智能的重要指导意义。

　　“十四五规划”为科技发展创造有利外部条件

　　注重科技前沿领域攻关，在集成电路、新一代人工智能、量子信息等领域攻克难题，加强技术自主研发能力，增强国家核心竞争力。规划指出，在人工智能领域要注重前沿基础理论突破、专用芯片研发等领域创新。量子信息方面要加强自由空间量子通信技术研发，通用量子计算原型机和实用化量子模拟机研制。集成电路燕着重集成电路设计工具、重点装备和高纯靶材等关键材料研发，集成电路先进工艺和绝缘栅双极型晶体管(IGBT ) 、微机电系统(MEMS)等特色工艺突破，先进存储技术升级，碳化硅、氮化综等宽禁带半导体发展。

　　加强原创性引领性科技攻关

　　在事关国家安全和发展全局的基础核心领域，制定实施战略性科学计划和科学工程。瞄准人工智能、量子信息、集成电路等前沿领域，实施一批具有前瞻性、战略性的国家重大科技项目。

　　超纯水设备为集成电路产品规模增长助力

　　众所周知，集成电路是一种微型电子器件或部件，它对于清洗用水的水质有着极高的要求，一旦清洗用水中含有杂质，就会产生水垢，影响其电阻率，影响其成品率，莱特莱德超纯水设备生产的超纯水的电阻率可达到18 MΩ*cm(25℃)，完全符合集成电路清洗用水要求。

　　莱特莱德超纯水设备在集成电路清洗中优势如下：

　　1、无需使用任何再生化学品进行再生，减少了化学品运输问题，同时降低了系统运行费用。

　　2、无需中和药剂。EDI膜块不会有酸碱废液产生，所以不需要酸碱中和池，一般情况下，EDI进水为二级反渗透产水，水质较好，及时经过EDI系统的浓缩之后，EDI的浓水水质仍然优于一级反渗透产水，所以EDI浓水可以回流至一级反渗透产水箱。。

　　3、整套系统运行成本较低。这是因为反渗透没有酸碱再生，减少了相关费用的产生。

　　4、水资源利用率高。与其他生产厂家相比，莱特莱德反渗透设备的回收率更高。

　　5、可以连续工作，无需树脂更换，自动化性能强，无需人工操作。

　　6、设计结构紧凑，占地面积小，安装方便。

　　2020年的中国集成电路行业逆风飞翔，虽困难重重，但前路已明。2021年，莱特莱德超纯水设备将助力集成电路行业乘风破浪，取得重大突破。