芯片行业发展迅速 超纯水设备前景向好

　　现在我们的芯片研究已经非常迅速。从100多纳米系统到现在的5纳米制式，20倍的缩减意味着科技的进一步集中和细化。就现在5纳米的工艺制程来看，这样的芯片和我们人类现在的科技已经可以相互匹配。而随着人类的科学的发展，新的技术新材料新的发现，才能从科学的层面更好地去推动芯片的发展，芯片发展的历程如下：

　　从140纳米到90纳米——50纳米

　　从90纳米到48纳米——42纳米

　　从48纳米到28纳米——20纳米

　　从28纳米到14纳米——14纳米

　　从14纳米到10纳米——4纳米

　　从10纳米到7纳米——3纳米

　　从7纳米到5纳米——2纳米

　　这整个过程的时间并不长，可能前前后后就是十多年的时间。但是纳米的跨越却随着一次又一次的升级而变得越来越慢。所以可以想见的是，从5纳米到3纳米可能我们需要跨越的技能难关会呈指数级的提高。现如今人们就已经开始探求各种可以替代现在技术的芯片生产设计和制造技术，比如台积电的原子级芯片研究。

　　芯片作为一种高精度电子元件，对于生产用水有着极高的要求，如果水质不合格就会影响芯片的电阻率，莱特莱德超纯水设备生产的水质是除了水分子外，几乎没有什么杂质的水质，电阻率可达到18MΩ·CM，符合芯片行业用水需求，随着芯片行业的迅速发展，超纯水设备的市场前景也变得更广阔。

　　莱特莱德超纯水设备采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理等方法，将水中的导电介质几乎完全去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度。超纯水系统设备的脱盐核心部件为反渗透膜组件、EDI系统和抛光混床，超纯水系统设备通常由预处理部分，反渗透主机部分，后处理部分共同组成，主要具有以下优势：

　　1、无需酸碱再生：在混床中树脂需要用化学药品酸碱再生，而EDI则消除了这些有害物质的处理和繁重的工作。保护了环境。

　　2、连续、简单的操作：在混床中由于每次再生和水质量的变化，使操作过程变得复杂，而EDI的产水过程是稳定的连续的，产水水质是恒定的，没有复杂的操作程序，操作大大简便化。

　　3、降低了安装的要求：超纯水处理设备采用积木式结构，可依据场地的高度和灵活地构造。模块化的设计，使EDI在生产工作时能方便维护。

　　莱特莱德超纯水设备具有抗污染能力强、节能环保、产水水质稳定、脱盐率高、系统内无死水等优势，出水水质符合美国ASTM D5127电子及半导体业用纯水水质TypeE-1.2，高于中国国家电子级超纯水标准GBT11446.1-1997EW-Ⅰ标准。莱特莱德专注电子超纯水领域，是集研发设计、设备制造、工程施工、运营维护为一体的环保解决方案服务商，为客户提供不但买得起，还能用得起，更能用得好的环保解决方案!