单晶硅清洗超纯水设备公司分享操作人员如何维护设备

　　半导体器件生产中单晶硅应该经严格清洗，清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物，这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。因此单晶硅清洗超纯水设备应运而生，单晶硅清洗超纯水设备正式运行之后，企业安排的操作人员应该如何维护单晶硅清洗超纯水设备呢？下面单晶硅清洗超纯水设备公司为您详细说明：

　　1、运行单晶硅清洗超纯水设备时，操作人员应该先开启单晶硅清洗超纯水设备，让设备运行20分钟左右，给设备一个磨合过程，这样做的目的是可以减少单晶硅清洗超纯水设备部件之间的磨损。

　　2、单晶硅清洗超纯水设备运行时间最好在2-5个小时之间，如果设备处于长时间运行状态，会让设备部件超负荷，时间久了单晶硅清洗超纯水设备会出现故障。所以，工作人员要适当停止设备，让设备得到适当的休息。

　　3、单晶硅清洗超纯水设备在运行过程中，工作人员要留意设备各个部件之间接触摩擦是否有异常的声音，如果有异常的声音应该尽快停止使用，并为部件连接处涂抹润滑油。

　　以上就是小编为大家介绍的全部内容，希望对您有帮助。我们在使用单晶硅清洗超纯水设备一定要按照厂家要求定期清洗、维护单晶硅清洗超纯水设备。

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