半导体超纯水设备能去除水中哪些杂质

　　众所周知，任何产品的生产都离不开水，水中杂质很多，只有将其去除才能满足用水需求，那么半导体超纯水设备能去除水中哪些杂质？让我们一起来看看。

　　1、溶解的无机盐

　　有钠、钙、镁等盐类，溶于水形成正离子。含有这些离子的水冲洗半导体器件时，会使这些不纯物扩散到集成电路表面，造成短路。

　　2、溶解的有机物

　　有工业排出污物、洗涤剂、生物分解物和微生物的新陈代谢产物。这些可以用活性炭吸附方法除去。炭床要置于离子交换树脂之前，因活性炭本身会带来杂质。必须注意，进入树脂床的水要先除去有机物，因为离子交换树脂易为有机物污染。反渗透可除去分子量大于300的有机物，分子量小于300的有机物可除去90%。

　　3、粒子物质

　　很多地方都容易产生，如炭床、树脂床、深层过滤等一些设备。虽然用一些方法能达到高电阻率，但没有有效地除去粒子物质。这就会使半导体器件出现针孔、短路、断路、内部击穿和光致抗蚀剂脱落等缺陷。

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