硅片清洗用去离子水设备滋生细菌用什么方法处理？

文章出处：EDI水处理作者：EDI水处理发表时间：2019-09-27 16:01:50

　　硅片清洗用去离子水设备使用过了一段时间之后，不可避免的会发生细菌滋生的问题，细菌滋生不仅会影响设备的产水水质，还会对设备性能产生影响，那么，硅片清洗用去离子水设备滋生细菌用什么方法处理？

　　1、次氯酸钠添加量应根据水源中细菌数进行相应调整，除了定期对细菌数进行检测外，还应对混合离子交换柱入口游离氯进行检测，以免游离氯超标，影响树脂的正常运行。

　　2、注意用水点旋塞的污染，使用频率较小的旋塞容易成为微生物污染的对象，一旦污染，若不长时间放水冲洗，则无法恢复原状态。

　　3、次氯酸钠溶液容易氧化分解，若使用时间过长或系统逢节假日停运时间较长，除了从水箱放水让反渗透膜隔一段时间运行数小时、使系统保持活性外，也要对次氯酸钠溶液适时进行更换。

　　4、混合离子交换柱通常都采用一用一备的，细菌在静止的电子超纯水系统中能够迅速繁殖，通常在备用混床投入运行前，对其进行再生，以保证杀菌效果。

　　在硅片清洗用去离子水设备生产过程中，要记得进行清洗，这样也能有效的避免细菌滋生。