对于单晶硅超纯水设备的污染物有哪些去除方法？

文章出处：EDI水处理作者：EDI水处理发表时间：2019-09-26 15:51:43

　　我们在清洗单晶硅超纯水设备时，一般是一年清洗一次，反渗透膜的清洗最好由专业人员根据膜上主要污染物确定清洗方案。那么对于单晶硅超纯水设备的污染物有哪些去除方法？

　　1、碳酸钙垢。

　　在阻垢剂添加系统出现故障时导致给水PH升高，那么碳酸钙就有可能沉积，应尽早发现碳酸钙垢沉淀的发生，以防止生长的晶体对膜表面产生损伤，如早期发现碳酸钙垢，可以用降低给水pH至3.0～5.0之间运行1～2小时的方法去除。

　　2、有机沉积物。

　　有机沉积物(例如水中的腐殖质、微生物粘泥或霉斑等)可以使用三聚磷酸钠、十二烷基苯磺酸钠清洗液，调节pH值至10.0进行清洗。为了防止细菌微生物再繁殖，可使用不含氯的非氧化性杀菌溶液在系统中循环、浸泡，一般需较长时间浸泡才能有效。

　　3、清洗液。

　　确定清洗前对污染物进行化学分析十分重要的，对分析结果的详细分析比较，可保证选择清洗剂及清洗方法，应记录每次清洗时清洗方法及获得的清洗效果，为在特定给水条件下，找出最佳的清洗方法提供依据。

　　上述就是单晶硅超纯水设备清洗常见的污染物去除方法，对于水处理设备而言机器自身的干净是产水的前提，所以我们日常要仔细维护保养设备。