晶片清洗用去离子水设备使用的控制仪表有哪些

文章出处：EDI水处理作者：EDI水处理发表时间：2019-08-27 16:30:25

　晶片清洗用去离子水设备使用的控制仪表有哪些？下面我们详细汇总：

　　1、低压开关：工业去离子水设备低压开关设置于高压泵前，在缺水或水压过低时保护高压泵，防止高压泵空转。

　　2、高压开关：设置于高压泵后，保护反渗透设备膜，防止在操作不当或反渗透设备膜阻塞时膜壳中压力过高损坏管道或反渗透设备中的膜元件。

　　3、水位开关：控制晶片清洗用去离子水设备的启停，在原水箱缺水时和纯水箱水满时系统停运。

　　4、电导仪：在线监测产水水质，可根据电导的改动判断膜的性能是否正常。