半导体生产用超纯水设备工艺流程是什么

　　随着中国经济的发展，我们也意识到，半导体领域供应存在风险。所以中国在半导体领域出台很多相关政策，可见，当前国内的半导体行业发展十分火热。半导体生产厂家不断改进生产工艺，提升产品品质。半导体纯水系统也是半导体生产中必不可少的装置，因为半导体生产过程中对用水的要求较高，必须达到超纯水标准，而且国家也制定了相关行业用水标准，可见半导体生产过程中使用超纯水的重要性。

　　半导体的生产过程中，涉及到的用水有生产用水和清洗用水。它的用水要求必须是超纯水，因为只有超纯水才能符合水质的标准，因此半导体生产用超纯水设备起到重要作用，已经得到广泛认可。下面为大家分享半导体生产用超纯水设备工艺流程：

　　原水箱→原水泵→全自动多介质过滤器→全自动活性炭过滤器→还原剂加药装置→全自动软化过滤器→保安过滤器→一级高压泵→一级反渗透系统→一级RO水箱→PH调节装置→二级高压泵→二级反渗透系统→二级RO纯水箱→EDI增压泵→UV杀菌器→脱气膜→精密过滤器→EDI装置→EDI纯水箱→纯水泵→抛光混床→0.22u膜过滤器→生产线用水点

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