多晶硅片清洗为什么要用到超纯水设备？

　　多晶硅片清洗的过程中会使用到超纯水设备产的超纯水，用来冲洗多晶硅片上的杂质，那么多晶硅片清洗为什么要要用到超纯水设备呢?

　　硅是地球上储藏最丰富的材料之一，从19世纪科学家们发现了晶体硅的半导体特性后，它几乎改变了一切，甚至人类的思维。直到上世纪60年代开始，硅材料就取代了原有锗材料。硅材料――因其具有耐高温和抗辐射性能较好，特别适宜制作大功率器件的特性而成为应用最多的一种半导体材料，目前的集成电路半导体器件大多数是用硅材料制造的。

　　多晶硅片,半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。有机污染包括光刻胶、有机溶剂残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维。无机污染包括重金属金、铜、铁、铬等，严重影响少数载流子寿命和表面电导;碱金属如钠等，引起严重漏电;颗粒污染包括硅渣、尘埃、细菌、微生物、有机胶体纤维等，会导致各种缺陷。所以清洗多晶硅，半导体，太阳能光伏电池板必须用超纯水，目前制取超纯水工艺可分为反渗透+混床超纯水设备，二是反渗透+EDI超纯水设备，这是两种制取超纯水设备常用的工艺。

　　上述内容就是小编对于多晶硅片清洗为什么要用到超纯水设备的介绍了，使用超纯水主要是为了保证产品的质量，不受到污染，经过了上述介绍也就知道了多晶硅超纯水设备有什么用了。

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