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我国电子工业高纯水水质试行标准是什么?

文章出处:EDI水处理作者:EDI水处理发表时间:2013-08-08 16:42:36

  随着电子工业的发展,在芯片的生产加工过程中,对于水质的要求也越来越高。为了保证生产出超大规模的集成电路,除高纯原材料、高纯气体、高纯化学药品外,超纯水也是其中最关键的因素之一。

  超纯水系统是将一般的市政用水处理成对不同离子的含量和颗粒度都有很高要求的超纯水。超纯水系统总体来说一般可分为三个部分:超纯水制造区(CUB部分)、超纯水抛光循环区(FAB部分)、超纯水输送管网(FAB各使用区)。其中超纯水制造区最为复杂,其又可分为:预处理、一次纯水处理、超纯水处理三个部分。

 序号

 水质项目

 一级高纯水指标

 二级高纯水指标

 1

 电阻率(25℃)MΩ·cm

 15

 10

 2

 电导率,μs/cm

 0.05

 0.1

 3

 PH

 6.87.2

 6.67.4

 4

 细菌总数,个/mL

 3

 9

 5

 微粒(直径>0.5μm,粒/mL

 150

 300

 6

 二氧化硅

 10

 20

 7

 有机物(以COD计)

 0.3

 0.5

 8

  Na

 0.5

 2

 9

  Fe

 1

 2

 10

  Cu

 0.5

 1

 11

  Ca

 1

 3

 12

  Mg

 0.2

 1

 13

  Zn

 0.5

 1

 14

  Mn

 0.2

 0.5

说明:①一级电子工业高纯水适用于大规模集成电路,微波器件以及有相同要求到半导体器件产品。

  ②二级高纯水适用于一般电路,分立器件以及有相同要求的半导体器件产品。