超纯水设备助力半导体行业更具“芯”机

 　　半导体材料是全球半导体产业发展的新战略高地。目前,美国及其伙伴国家已将一些关键材料和生产设备列入管制清单,危及中国半导体工业及相关工业系统的安全。迫切需要实现我国半导体材料、辅助材料、关键技术和重要设备的自主控制。

　　在半导体加工过程中，需要对水进行处理。水质要求很高，不能含有任何离子杂质，但超纯水的回用率不高，因此对高品质超纯水的需求很大。传统的超纯水制备方法主要有蒸馏法和离子交换法。蒸馏设备要求严格，产量低，能耗高。离子交换法再生失效的离子交换树脂需要大量的酸碱溶液和大量的清洗水，劳动强度高。随着电镀工业的不断发展，对超纯水水的质量要求越来越高。这些传统方法已经不适合生产高纯度超纯水。

　　莱特莱德超纯水设备通常由预处理系统、RO反渗透主机系统、EDI电脱盐系统、精混床系统等构成主要设备系统。经过多年的实践，莱特莱德采用反渗透技术与EDI装置及抛光混床相结合的工艺制备超纯水，具有良好的实用价值，可实现自动控制。在一定程度上可以有效满足我国电子水质标准，具有自动化程度高、过程自动控制容易、气田水水质稳定等优点。

　　莱特莱德超纯水设备设计采用成熟、可靠、高度自动化的两级RO+EDI+精混床除盐水处理工艺，确保处理后的电阻率达到18MΩ以上。设备内部还安装有反渗透预脱盐技术，这再次从根本上确保了设备的出水质量。同时，EDI处理装置废水产量少，不会污染环境，具有很高的环境效益和经济效益，助力半导体行业更具“芯”机。