工业超纯水设备助力上海集成电路产业增速

 　　7月21日，上海市人民政府办公厅印发《上海市战略性新兴产业和主导产业发展“十四五”规划》。《规划》提出，“十四五”期间，集成电路产业规模年均增长率将达到20%左右，力争使制造业领域两家企业收入稳定在世界前列，在设计、装备材料领域培育一批上市企业。到2025年，基本建成具有全球影响力的集成电路产业创新高地。重点发展：

　　1、集成电路设计。提高5G通信、桌面CPU、人工智能、物联网、汽车电子等核心集成电路研发能力，加快发展核心IP，推动FPGA、绝缘栅双极晶体管(IGBT)、高端微控制器(MCU)等关键器件研发。提高集成电路设计工具的供给能力，培育全过程电子设计自动化(EDA)平台，优化国内EDA产业发展的生态环境。

　　2、制造和密封试验。扩大成熟集成电路工艺生产线的生产能力，提高产品收率，提高先进工艺的量产规模，不断加快先进工艺的研发。提高特色工艺集成电路的研发和规模制造能力。进一步提升先进包装检测产业规模。

　　3、设备和材料。加快发展蚀刻机、清洗机、离子注入机、测量设备等高端产品。开展核心设备关键部件研发。提高12英寸硅片和先进光刻胶的研发和产业化能力。(资讯来源：中证网)

　　工业超纯水设备助力集成电路产业增速

　　在集成电路生产中，超纯水主要用于清洗硅片，少量水用于药液配制、硅片氧化蒸汽源、部分设备冷却水和电镀液配制。集成电路产品的质量与产量密切相关。水中的碱金属(k、Na等)会使绝缘膜的耐压变差，重金属(AU、Ag、Cu等)会降低PN结的耐压，III族元素(B、Al、GA等)会使n型半导体的特性恶化，V族元素(P、as、Sb、，等)会恶化p型半导体的特性，水中细菌经高温碳化后的磷(约20%～50%的灰分)会使p型硅片上的局部区域变成n型硅，导致器件性能的恶化。如果水中的微粒(包括细菌)吸附在硅片表面，会造成电路短路或特性不良。可见，超纯水在半导体工业中是必不可少的。

　　传统的超纯水处理工艺为单级/两级反渗透设备+混床。其缺点是需要再生，不能连续产水，不仅效率低，而且浪费资源。而超纯水设备采用反渗透加离子交换系统(或EDI)相结合的工艺来制取超纯水，与传统工艺相比，该工艺具有运行成本低(大大延长了离子交换器的再生周期)和运行可靠等优点。超纯水设备的出水水质符合美国ASTM d5127《电子半导体工业用e-1.2型纯水水质标准》，高于中国国家电子超纯水标准gbt11446.1-1997 EW-I。

　　《上海市战略性新兴产业和先导产业发展“十四五”规划》规划提出，以国家重大战略任务为牵引，强化创新平台体系建设、关键技术攻关和重大项目布局，持续提升产业能级和综合优势。到2025年，基本建成具有全球影响力的集成电路产业创新高地。先进制造工艺进一步提升，核心装备和关键材料国产化水平进一步提高，基本形成自主可控的产业体系。