超纯水设备助力半导体行业迎接“芯”机遇

 　　据中证网报道，6月9日，在2021年世界半导体大会开幕式上，工信部电子信息司司长乔跃山致辞介绍，当前，全球半导体产业进入重大的调整期，集成电路产业的风险与机遇并存。他指出，在经济全球化的时代，开放融通是不可阻挡的历史趋势。目前，中国是全球主要的电子信息制造业的生产基地，也是全球规模较大、增速较快的集成电路市场。2020年，我国集成电路产业规模达到8848亿元，“十三五”期间年均增速近20%，为全球同期增速的4倍，这也意味着我国半导体行业迎来了“芯”机遇。

　　芯片生产所需的硅片在使用前必须彻底清洁，一块8英寸的硅片可以生产大约100个芯片，需要2000加仑的超纯水才能达到所需的纯度。据估计，2007年生产了1730万英寸的硅片，消耗的超纯水足以填满50万个奥运游泳池。这也从另一个方向反映了芯片行业对超纯水的巨大需求。(数据来源于网络)

　　传统的超纯水制取工艺通常是采用离子交换树脂，但需要经常进行树脂再生，既耗费物力又耗费人工，莱特莱德经过多年实践，采用反渗透水处理设备与电去离子(EDI)设备及抛光混床相结合的方式来制取超纯水，这是一种制取超纯水的新工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的超纯水制备工艺。莱特莱德超纯水设备是一种采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理等方法，将水中的导电介质几乎完全去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水处理设备。

　　莱特莱德超纯水设备采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理等方法，将水中的导电介质几乎完全去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度。超纯水系统设备的脱盐核心部件为反渗透膜组件、EDI系统和抛光混床，超纯水系统设备通常由预处理部分，反渗透主机部分，后处理部分共同组成，主要具有以下优势：

　　1、无需酸碱再生：在混床中树脂需要用化学药品酸碱再生，而EDI则消除了这些有害物质的处理和繁重的工作。保护了环境。

　　2、连续、简单的操作：在混床中由于每次再生和水质量的变化，使操作过程变得复杂，而EDI的产水过程是稳定的连续的，产水水质是恒定的，没有复杂的操作程序，操作大大简便化。

　　3、降低了安装的要求：超纯水处理设备采用积木式结构，可依据场地的高度和灵活地构造。模块化的设计，使EDI在生产工作时能方便维护。

　　莱特莱德超纯水设备配备膜元件化学清洗专业技术，防止膜系统受到微生物污染。通过完善的技术，提高系统回收率，降低能耗和运行成本。莱特莱德超纯水设备除了应用在电镀行业外，在电子、电力、造纸、日化等领域都有着广泛的应用。