超纯水设备在芯片行业的应用

 　　近日，继光刻机问世后，我国有关部门再次传来利好消息，8英寸石墨烯晶片正式亮相。事实上，所谓的石墨烯晶圆是碳基材料。与硅基材料相比，碳基材料具有充分的优势。碳晶体管的理论工作速度是硅晶体管的5-10倍。然而，在功耗方面，碳基晶圆比硅基材料少约十分之一。

　　因此，石墨烯晶圆的正式亮相，意味着我国在更先进的碳基材料领域取得了领先地位，弥补了硅基材料的不足。中国未来率先变道超车不是梦想。国产芯片可谓“破冰”。一旦传统的硅基芯片达到摩尔定律的极限，那么碳基芯片将成为半导体领域的一种新材料，芯片产业也将最终“改变”。由于芯片生产过程对水质要求较高，超纯水的质量直接影响芯片的效果，因此国产芯片再度“破冰”，超纯水设备是功不可没的。

　　超纯水最早是为了研制超纯材料(半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等)应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术生产出来的水，是一种除了水分子外几乎无其他杂质的水。传统的超纯水制取工艺通常是采用离子交换树脂，但需要经常进行树脂再生，既耗费物力又耗费人工，莱特莱德经过多年实践，同时结合膜分离技术，采用反渗透加离子交换系统(或EDI)相结合的工艺来制取超纯水，该工艺与传统工艺相比具有运行成本低的优点(离子交换器的再生周期大大延长)，运行可靠。莱特莱德超纯水设备出水水质符合美国ASTM D5127电子及半导体业用纯水水质TypeE-1.2，高于中国国家电子级超纯水标准GBT11446.1-1997EW-Ⅰ标准。

　　超纯水设备的这些优势你知道吗？

　　1、无需酸碱再生：在混床中树脂需要用化学药品酸碱再生，而EDI则消除了这些有害物质的处理和繁重的工作。保护了环境。

　　2、连续、简单的操作：在混床中由于每次再生和水质量的变化，使操作过程变得复杂，而EDI的产水过程是稳定的连续的，产水水质是恒定的，没有复杂的操作程序，操作大大简便化。

　　3、降低了安装的要求：超纯水处理设备采用积木式结构，可依据场地的高度和灵活地构造。模块化的设计，使EDI在生产工作时能方便维护。

　　莱特莱德超纯水设备能连续稳定地制备出高质量的超纯水，不会因树脂再生而停止运行。设备结构设计相对紧凑，占地面积小，可为企业节省大量空间。工业超纯水设备出厂前需要进行调试，设备故障概率小，日常维护维修操作非常简单。

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