了解EDI水处理膜块进水水质要求确保设备稳定运行

　　为了确保纯水处理系统正常运行，必须满足EDI水处理膜块进水条件。EDI水处理膜块是超纯水制取装置中重要的组成部分，它的运行情况直接影响产水效果，所以为了设备性能达到充分发挥，在系统设计时应当适当提高进水水质。

　　前处理工艺设定：

　　一般情况下为一级反渗透+软化器，或者是双级反渗透。

　　(1)TEA(总可交换阴离子，含CO₂以CaCO₃计)≤25ppm

　　原水中离子杂质的限定：

　　TEA<25ppm,以CaCO₃计

　　TEC<25ppm，以CaCO₃计

　　一般，可交换阴离子(TEA)总负荷大于可交换阳离子(TEC)总负荷的原因在于无处不在的CO₂。因此系统设计通常以TEA为基础。TEA包括所有的阴离子和以阴离子形式被EDI去除的物质。

　　(2)原水硬度

　　对原水硬度限制主要目的是防止EDI水处理膜堆里的结垢。EDI中电解产生的OH^-离子在阴离子膜的浓水表面维持一个较高的pH值，该表面能形成钙、镁的结垢(碳酸盐、氢氧化物)。阴极表面也是高PH的位置，原因在于OH^-离子的再生与水的电解有关。这些污垢能用化学清洗方法来清除。

　　原水硬度限定操作条件

　　在进水硬度<0.1ppm时，系统的回收率为95%，而当进水硬度在0.1-0.5ppm时，浓水中需要加盐来调节浓水电导率，并且系统的回收率为90%，而且需要定期清洗。在进水硬度为0.5ppm以上时，建议添加辅助设备以降低硬度。

　　水处理EDI膜块原水硬度能通过以下方法来降低：

　　使用脱盐率较高的RO膜

　　使用双级反渗透

　　软化RO渗透液

　　(3)变价金属Fe、Mn<0.01 ppm

　　铁、锰等高价离子会使膜堆中的离子交换树脂有中毒作用，这比铁、锰离子在混床中的中毒现象还要严重很多，由于膜堆中的树脂总量比混床里的少很多，所以使树脂全部中毒时间会比混床短很多倍。因此应严格控制进水的铁、锰含量。

　　(4)CO₂<5ppm

　　因为二氧化碳在不同PH值下的存在形态不同，因此CO2是导致产水水质的差的首要原因。在膜堆内CO₂转化成为HCO₃^-。在阴离子的交换膜附近高PH处还会转为CO₃^2-。CO₂的含量将明显的影响产水水质。如果包括CO₂在内的TEA超过25ppm，膜堆将不能制备高纯度的产水。可以通过调节RO进水pH值或使用脱气装置来降低CO₂量。

　　(5)电导率

　　电导率是水中离子总量的综合指标，但它只能作为edi系统进水水质的一个参考性指标，不能直接代表纯水水质。其中主要的原因是电导率不能真实反映水中弱电解质的含量，比如二氧化碳，同样是产水为5μs/cm的RO产水，其二氧化碳含量有可能是1ppm也有可能是5ppm。

　　(6)可溶硅：≤0.5ppm

　　硅是许多发电和半导体装置中的必须要控制的杂质。通常，大部分有活性的硅被RO脱除。RO产水中残留的硅能被EDI有效地去除。

　　(7)有机物(TOC)：≤0.5ppm

　　(8)H2S：≤0.01ppm

　　(9)SDI：≤1.0

　　(10)PH：5-9

　　PH值是影响进水二氧化碳的重要指标，当进水总硬度低的情况下，可通过适当提高PH值，提高产水水质。

　　(11)余氯：≤0.05 ppm

　　余氯对离子交换树脂的氧化作用会使树脂永久性的损伤。