硅片切割清洗用超纯水设备性能优势

　　硅片切割清洗用超纯水设备针对硅片切割用水要求设计，主要采用预处理装置、反渗透系统、超纯化处理以及后处理等组成，该工艺可以将水中的导电介质完全去除掉，出水电阻率可以达到18兆欧以上。

超纯水设备

　　 硅片切割清洗用超纯水设备工艺流程

　　1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)(传统工艺)

　　2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)(新工艺)

超纯水设备

　　 硅片切割清洗用超纯水设备性能优势

　　1、可连续，稳定地生产高品质纯水，无需因树脂再生而停机。

　　2、无污染物排放，既环保又省去了废液处理的投资。

　　3、设备结构紧凑，占地面积小，节省空间，同时还具有节能优点。

　　4、出厂完成装置调试，现场工作量小，上岗培训容易。

　　5、日常保养，操作简单，劳动强度低。

超纯水设备

　　以上是硅片切割清洗用超纯水设备的简单介绍。莱特莱德公司经过多年的发展，培育并拥有一批在工程方案设计，设备安装调试上实践工作经验丰富的工程技术人员。我们能够根据用户的实际使用要求，提供性价比佳的解决方案。

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