集成电路生产用超纯水设备制备工艺

　　集成电路生产用超纯水设备同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法，真正做到了无人值守。该设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。

超纯水设备

　　集成电路生产用超纯水设备制备工艺

　　1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)(传统工艺)

　　2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)(新工艺)

　　3、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥17MΩ.CM)(新工艺)

　　4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥15MΩ.CM)(新工艺)

　　5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水对象(≥15MΩ.CM)(传统工艺)

超纯水设备

　　集成电路生产用超纯水设备特点

　　1、预处理和除盐系统所有管件、配件采用卫生级不锈钢，坚固耐用，抗腐蚀。

　　2、主要部件采用国际知名品牌，保证优良的产水水质。

　　3、超纯水设备的电路和水路彻底分离，避免因内部潮湿、漏水引起的电路老化损坏。

超纯水设备

　　4、先进的微电脑控制以及参数修改、提示功能，运行状态和产水水质在线显示，操作简单、快捷。

　　5、集成电路生产用超纯水设备.采用单双级RO反渗透+EDI连续电除盐+抛光混床工艺，出水电阻率可达18.2MΩ.cm，连续产水性能极佳。

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