电子芯片清洗用超纯水设备的技术指标

　　随着我国电子行业的经济迅速发展，电子对水质的要求也越来越高。超纯水的生产用水的水质好坏，直接影响产品的质量，进而影响整个企业的竞争力。电子芯片清洗用超纯水设备采用电渗析技术和离子交换技术相融合，进而完成水的深度除盐。

超纯水设备

　　电子芯片清洗用超纯水设备的技术指标

　　1、脱盐率大于99.9%，效率远远高于两级反渗透和单纯的离子交换。

　　2、较传统的离子交换法脱盐节约树脂95%以上。

　　3、离子交换树脂不需使用酸碱再生，节约大量酸碱和清洗用水，降低劳动强度。

　　4、清洁生产，无废水处理问题，利于环保。

　　5、自动化程度高，易维护，可设计成完善的膜技术高纯水生产线。

　　6、产水电阻率15-18MΩ.cm，pH6.5-7.0，硅<1.0ppb，彻底无菌。

　　7、占地面积小，单一系统连续运转，不需建设备用系统。

超纯水设备

　　超纯水使用要求

　　半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业标准，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。

超纯水设备

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