单晶硅加工用超纯水设备工作原理

　　单晶硅是电子信息材料中基础的制造材料，是半导体制造材料中不可缺少的组成部分。单晶硅加工用超纯水设备是专门用于单晶硅生产加工用水的装置，出水水质具有无污染，抗导电的作用。

超纯水设备

　　单晶硅加工用超纯水设备工作原理

　　电去离子(EDI)系统主要是在直流电场的作用下，通过隔板的水中电介质离子发生定向移动，利用交换膜对离子的选择透过作用来对水质进行提纯的一种科学的水处理技术。电渗析器的一对电极之间，通常由阴膜、阳膜和隔板(甲、乙)多组交替排列，构成浓室和淡室(即阳离子可透过阳膜、阴离子可透过阴膜)。淡室水中阳离子向负极迁移透过阳膜，被浓室中的阴膜截留。水中阴离子向正极方向迁移阴膜，被浓室中的阳膜截留，这样通过淡室的水中离子数逐渐减少，成为淡水，而浓室的水中，由于浓室的阴阳离子不断涌进，电介质离子浓度不断升高，而成为浓水，从而达到淡化、提纯、浓缩或精制的目的。

超纯水设备

　　单晶硅加工用超纯水设备特点

　　1、零部件均采用进口产品，技术先进。

　　2、质量可靠，整体化程度高，易于扩展，增加膜数量即可增加处理量。

　　3、自动化程度高，遇故障立即自停，具有自动保护功能。

　　4、膜组件为复合膜卷制而成，表现出更高的溶质分离率和透过速率。

　　5、能耗低，水利用率高，运行成本低。

　　6、结构合理，占地面积少。

超纯水设备

　　7、先进的膜保护系统，在设备关机，淡化水可自动将膜面污染物冲洗干净，延长膜寿命。

　　8、单晶硅加工用超纯水设备设有膜清洗系统和阻垢系统。系统无易损部件，无须大量维修，运行长期有效。

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