EDI超纯水设备工作原理及应用场合

　　EDI超纯水设备采用了连续电除盐装置。连续电除盐是利用混和离子交换树脂吸附给水中的阴阳离子，同时这些被吸附的离子又在直流电压的作用下，分别透过阴阳离子交换膜而被除去的过程。

超纯水设备

　　EDI超纯水设备工作原理

　　1、水进入EDI系统，主要部分流入树脂/膜内部，而另一部分沿模板外侧流动，以洗去透出膜外的离子。

　　2、树脂截留水中的溶存离子。

　　3、被截留的离子在电极作用下，阴离子向正极方向运动，阳离子向负极方向运动。

　　4、阳离子透过阳离子膜，排出树脂/膜之外。

　　5、阴离子透过阴离子膜，排出树脂/膜之外。

　　6、浓缩了的离子从废水流路中排出。

　　7、无离子水从树脂/膜内流出。

超纯水设备

　　EDI超纯水设备应用场合

　　1、电解电容器生产铝箔及工作件的清洗。

　　2、电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液。

　　3、显像管和阴极射线管生产、配料用纯水。

　　4、黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水。

　　5、液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液。

　　6、晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制。

　　7、集成电路生产中高纯水清洗硅片。

　　8、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路。

　　9、LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏。

　　10、高品质显像管、萤光粉生产。

　　11、半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗。

　　12、超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料。

　　13、实验室和中试车间。

　　14、汽车、家电表面抛光处理。

　　15、光电产品、其他高科技精微产品。

超纯水设备

　　EDI超纯水设备水质标准

　　我公司电子级超纯水设备出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标