电子芯片清洗用超纯水设备的技术指标

　　电子芯片清洗用超纯水设备是专门为电子行业设计的，保证水质上的安全。主要元件采用进口元件，稳定性高，操作简单方便。

超纯水设备

　　电子芯片清洗用超纯水设备的技术指标

　　(1)脱盐率大于99.9%，效率远远高于两级反渗透和单纯的离子交换。

　　(2)较传统的离子交换法脱盐节约树脂95%以上。

　　(3)离子交换树脂不需使用酸碱再生，节约大量酸碱和清洗用水，降低劳动强度。

　　(4)清洁生产，无废水处理问题，利于环保。

　　(5)自动化程度高，易维护，可设计成完善的膜技术高纯水生产线。

　　(6)产水电阻率15-18MΩ.cm，pH 6.5-7.0，硅<1.0ppb，彻底无菌。

　　(7)占地面积小，单一系统连续运转，不需建设备用系统。

超纯水设备

　　电子芯片清洗用超纯水设备主要特点

　　(1)出水水质优质稳定，出水无细菌和固体悬浮物。

　　(2)污泥负荷(F/M)低，剩余污泥产量少。

　　(3)反应器高效集成，占地面积小，不受设置场合限制。

　　(4)主要污染物COD、BOD有效降解，无二次污染。

　　(5)高效生物脱氮功能。

　　(6)操作管理方便，易于实现自动控制。

　　(7)电子芯片清洗用超纯水设备运行费用低。

超纯水设备

　　电子芯片清洗用超纯水设备占地面积小，便于维修和保养。莱特莱德超纯水设备公司生产的清洗用超纯水设备采用国际进口的零部件，更加耐用，同时还具有节能优点。

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