集成电路芯片用超纯水设备工艺解析

　　集成电路芯片用超纯水设备主要采用反渗透+混床工艺。混床离子交换技术一直作为超纯水制备的标准工艺。将电渗析技术和离子交换技术有机结合形成的EDI技术成为水处理技术的一场革命。

超纯水设备

　　集成电路芯片用超纯水设备工艺流程

　　1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)(传统工艺)。

　　2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)(新工艺)。

　　3、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥17MΩ.CM)(新工艺)。

　　4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥15MΩ.CM)(新工艺)。

　　5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水对象(≥15MΩ.CM)(传统工艺)

超纯水设备

　　集成电路芯片用超纯水设备特点

　　1、连续运行,产品水水质稳定，容易实现全自动控制。

　　2、超纯水设备无须用酸碱再生，且不会因再生而停机。

　　3、节省了再生用水及再生污水处理设施，产水率高(可达95%)。

　　4、设备单元模块化，可灵活的组合各种流量的净水设施。

　　5、无须酸碱储备和酸碱稀释运送设施，使用安全可靠，避免工人接触酸碱。

　　6、安装简单，占地面积小，降低运行及维护成本。

超纯水设备

　　集成电路芯片用超纯水设备具有技术先进、操作简便、无污染，是清洁生产技术，不仅在微电子工业得以应用，也在电力工业、医药工业、化工工业和实验室等领域得到日趋广泛的应用。

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