半导体生产用超纯水设备的工作原理

　　半导体的生产离不开水的处理和加工，为此，半导体生产用超纯水设备采用的制水技术，保证设备出水水质符合行业用水需求。

　　半导体生产用超纯水设备工作原理

　　超纯水设备供给原水进入EDI超纯水系统，主要部分流入树脂/膜内部，而另一部分沿膜板外侧流动，以洗去透出膜外的离子，树脂截留水中的容存离子，被截留的离子在电极作用下，阴离子向正极方向运动，阳离子向负极方向运动，阳离子透过阳离子膜，排出树脂/膜之外，阴离子透过阴离子膜，排出树脂/膜之外，浓缩了的离子从废水流路中排出，无离子水从树脂/膜内流出。

　　半导体生产用超纯水设备的工艺流程

　　原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透机→中间水箱→中间水泵→EDI系统→微孔过滤器→用水点

　　半导体生产用超纯水设备特点

　　1、选用高性能离子交换树脂，工作交换容量大，能耗低，使用寿命长。

　　2、控制部分全部采用进口控制器，保障设备持续安全运行。

　　3、全自动控制系统，出水稳定，使用操作方便快捷。

　　4、结构合理，安装操作方便。

　　5、可根据实际使用需求，水处理设备个性化设计相应设备。

　　半导体生产用超纯水设备采用的制水工艺成熟，结合全自动运行控制系统，保证设备运行稳定，具有操作简单、出水可靠等优点。