硅晶片清洗用超纯水设备技术先进

　　硅晶片清洗用超纯水设备整体采用反渗透和EDI技术相结合的制水技术，有效去除水中的胶体、悬浮物、细菌、离子等杂质，出水水质可以达到18兆欧以上。

　　硅晶片清洗用超纯水设备工艺流程

　　1、采用离子交换方式，其流程如下：

　　原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→阳树脂过滤床→阴树脂过滤床→阴阳树脂混床→微孔过滤器→用水点

　　2、采用两级反渗透方式，其流程如下：

　　原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→第一级反渗透→PH调节→中间水箱→第二级反渗透(反渗透膜表面带正电荷)→纯化水箱→纯水泵→微孔过滤器→用水点

　　3、采用EDI方式，其流程如下：

　　原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透机→中间水箱→中间水泵→EDI系统→微孔过滤器→用水点

　　硅晶片清洗用超纯水设备各部件说明

　　1、自来水箱：主要解决自来水压力不稳定的问题，减少提升泵在运行过程中频繁启动或受自来水压力不稳定带来的机械故障。

　　2、石英砂过滤器：自来水从罐体上端进入，经过上布水器均匀从滤层上端流向下端。自来水经过滤层后通过下布水器脱离滤层，形成过滤水。

　　3、活性炭过滤器：活性炭过滤器内部结构成石英砂过滤器完全一样。经过活性炭吸附后自来水的余氯一般可降到0.1mg/l以下。

　　4、软水器：去除水中的钙镁离子，降低水的硬度，为EDI进水创造条件。

　　5、精密过滤器：主要使用5us的熔喷滤芯，可除去细小的颗粒，进一步为反渗透进水创造条件。

　　6、高压泵：为反渗透运行提供需要的动力。

　　7、反渗透系统：反渗透系统是设备的核心部件，在反渗透的设计上主要考滤膜元件的数量、品牌、排列三大问题。

　　清洗根据清洗范围的不同，可以分为民用清洗和工业清洗，在工业生产中涉及到的清洗都属于工业基础清洗的范畴。硅晶片清洗用超纯水设备采用国际先进的水处理工程技术，产品的质量与性能均是同行业中一流的，产品的市场前景非常广阔，深受广大使用者的青睐与认可。