半导体生产用超纯水设备工作原理

　　半导体行业的生产对水质要求非常严格，莱特莱德半导体生产用超纯水设备采用先进制水技术，保证设备出水水质符合行业用水需求。

　　半导体生产用超纯水设备工作原理

　　超纯水装置供给原水进入EDI系统，主要部分流入树脂/膜内部，而另一部分沿膜板外侧流动，以洗去透出膜外的离子，树脂截留水中的容存离子，被截留的离子在电极作用下，阴离子向正极方向运动，阳离子向负极方向运动，阳离子透过阳离子膜，排出树脂/膜之外，阴离子透过阴离子膜，排出树脂/膜之外，浓缩了的离子从废水流路中排出，无离子水从树脂/膜内流出。

　　半导体生产用超纯水备工艺

　　1、预处理-反渗透-水箱-阳床-阴床-混合床-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-精密过滤器-用水对象

　　2、预处理-一级反渗透-加药机(PH调节)-中间水箱-第二级反渗透-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象

　　3、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象

　　4、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制抛光混床-TOC分解器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(新工艺)

　　半导体生产用超纯水备特点

　　1、选用高性能离子交换树脂，工作交换容量大，能耗低，使用寿命长。

　　2、控制部分全部采用进口控制器，保障设备持续安全运行。

　　3、全自动控制系统，出水稳定，使用操作方便快捷。

　　4、结构合理，安装操作方便。

　　5、可根据实际使用需求，水处理设备个性化设计相应设备。

　　半导体生产用超纯水备主要由预处理、反渗透、EDI模块和后处理装置组成，可以有效去除原水中的悬浮物、胶体、细菌、金属离子等杂质，出水电阻率可以达到18兆欧以上，完全满足半导体行业用水需求。