集成电路EDI超纯水设备清洗污垢方法简介

　　集成电路EDI超纯水设备主要用在电子制造业中的集成电路芯片生产领域上面，随着科技的发展，集成电路芯片成为电子产品中不能缺少的配件，在这种电子配件生产的过程中，必须使用超纯水作为流程中。

　　电子制造业对超纯水的使用量以及对用水质量的要求不低于医疗制药行业，因为电子产品生产的时候会用到超纯水，其用水质量的好坏直接关系着最终产品质量的好坏，因此电子制造企业大多数都会使用电路芯片EDI电除盐系统对原水进行处理，进而使得原水符合企业用水标准。

　　集成电路EDI超纯水设备清洗污垢方法

　　1、倒换电极。可以有效地减轻膜及阴极上的水垢，一般水垢沉积在浓水室阴极表面上，倒换电极后，浓水室、淡水室相应倒换造成水垢的不稳定状态，因而可以减轻结垢。

　　2、酸洗。是消除沉淀的有效方法，水垢积到一定程度，就需要进行酸洗，酸洗一般采用循环酸洗，浓水，淡水和极水室一次酸洗的方法。

　　3、碱洗。酸洗不能取出有机沉淀物，对于这类污染层可以用碱性食盐水清洗，使有机物消除，碱洗可以利用酸洗系统进行，一般不另设装置。

　　4、定期拆洗。采用上述方法不能回复除盐率时，应把EDI膜堆拆开清洗，重新组装一般1-1.5年电渗析需要拆洗一次。

　　集成电路芯片EDI电除盐系统采用的是流行的EDI膜块制水工艺，最终出水电阻率能够达到18兆欧以上，与此同时，集成电路EDI电除盐系统的出水中还不会含有任何的细菌以及微生物，所以使用该种电路芯片EDI电除盐系统作为供水系统的企业的产品质量一定是符合标准的。

　　集成电路EDI超纯水设备最早出现在发达国家中，上世纪六十年代在我国才开始应用，电路芯片EDI电除盐系统的出现标着中国水处理的一次大革命。