EDI电子超纯水设备三大工艺对比

 　　电子行业发生的变化给人们日常生活带来巨大影响，电子产品不可缺少的配件半导体越来越受到人们关注，EDI电子超纯水设备对电子元件主要的生产起着至关重要的辅助作用。EDI电子专用超纯水设备中的反渗透膜孔的直径到纳米，采用双级反渗透之后出水标准超过国家半导体清洗用超纯水标准。设备出水水质可达18.2兆，废水的回收率可以达到80%到90%以上。

　　现如今，EDI电子超纯水设备工艺主要有三大类，其他的工艺基本上都是在这三大类的基础上进行不同结合搭配衍生出来的。现在将这三种工艺的优缺点列于此。

　　1、EDI电子专用超纯水设备采用的第一种工艺主要使用离子交换树脂，优点显示在投入资金少，占用的地方不是很大，但缺点也非常明显，必须经常进行再生，对环境有一定的破坏。

　　2、第二种工艺使用反渗透技术作为预处理装置技术，这个工艺缺点比上一种工艺还要严重，初期的投入资金比上一种高出很多，优点就是EDI电子专用超纯水设备再生时间间隔相对要长，对环境同样有一定的污染性。

　　3、第三种工艺同样是采用反渗透作装置作为预处理设备，第三种方法这是现如今制取超纯水经济、环保用来制取超纯水工艺，不必进行设备再生处理，并且周围环境基本无污染。但是其缺点在于资金投入方面相对以上两种方式还是过于高。

　　不管EDI电子超纯水设备使用哪种工艺都能够满足各类化工业的用水要求，只不过是在资金投入以及污染方面的不同。