电子工业超纯水设备工艺流程说明

　　电子工业超纯水设备是近年来发展起来的一种高新水处理设备，在中国从二十世纪八十年代发展起步，主要应用于新兴的高新电子产业以及半导体元件生产用水。电子工业超纯水设备是专门应用在电子企业中的高新水处理设备，能够有效解决行业用水需求。

　　电子工业超纯水设备工艺设计

　　目前常见的电子工业超纯水设备工艺采用二级反渗透工艺结合连续电除盐工艺达到超纯水制备的目的。较比传统的混床工艺有着更强的稳定性，但投入成本较高，维护费用较高。EDI技术发展至今，通过合理的设计以及材料的选择，节省的投资者的无用性成本投资，有效解决了这一问题。经过多年来的市场应用，已经成为了一种先进且成熟的超纯水制备工艺。

　　电子工业超纯水设备工艺流程

　　1、 采用离子交换树脂制备超纯水的传统水处理方式，其基本工艺流程为：原水→砂碳过滤器→精密过滤器→阳床→阴床→混床(复床)→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器 → 用水点。

　　2、采用反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合的方式，其基本工艺流程为：原水→砂碳过滤器→精密过滤器→反渗透设备→纯水箱→混床(复床)→超纯水箱→超纯水泵→后置精密过滤器→用水点。

　　电子工业超纯水设备在水行业中属于深度处理水系统，往往与反渗透工艺一同使用，组成预处理、反渗透、EDI装置的超纯水处理系统，取代了传统混合离子交换水处理设备。EDI装置进水电阻率标准通常是0.025-0.5MΩ·cm，装置完全可以满足要求。