电路板超纯水设备污垢清洗四大技术

文章出处：EDI水处理作者：EDI水处理发表时间：2013-12-05 16:49:11

　　水处理edi技术是继反渗透膜技术之后水处理行业的又一有力技术，EDI超纯水装置出现从根本上解决了电子工业清洗原件问题，使世界科技发展进入到一个崭新阶段。

　　工业上使用的EDI超纯水装置给水通常都是城市管网自来水或者是地下水，不经过处理的给水很容易使设备内部产生污垢，这些污垢如何去除，成为人们热门研究的课题。

　　电路板超纯水设备清洗污垢方法

1	倒换电极	可以有效地减轻膜及阴极上的水垢，一般水垢沉积在浓水室阴极表面上,倒换电极后，浓水室、淡水室相应倒换造成水垢的不稳定状态,因而可以减轻结垢。
2	酸洗	是消除沉淀的有效方法，水垢积到一定程度，就需要进行酸洗，酸洗一般采用循环酸洗，浓水,淡水和极水室一次酸洗的方法。
3	碱洗	酸洗不能取出有机沉淀物，对于这类污染层可以用碱性食盐水清洗，使有机物消除，碱洗可以利用酸洗系统进行，一般不另设装置。
4	定期拆洗	采用上述方法不能回复除盐率时，应把EDI膜堆拆开清洗,重新组装一般1-1.5年电渗析需要拆洗一次。

　　上述四种方法都是电路板超纯水设备污垢清洗方法，这四种方法都是专业人员在长期实践中积累经验总结的，由于设备应用地区不同，所以供应原水水质不同，应用的清洗方法也不尽相同，所以应该根据自身情况选择较适合的清洗方法。