电子工业纯水设备工艺流程说明

　　电子行业等工业纯水工艺流程

　　该工艺采用YRRO-ET系列电子超纯水设备，适用于计算机硬盘，集成电路芯片，半导体，显像管，液晶显示器，线路板等工艺用的纯水，超纯水。，采用世界上先进的美国反渗透元件，压力容器，高压泵设备，配以先进而又合理的预处理和后级处理备，生产出符合电子生产标准的水。控制部份采用进口PLC控制，可实现自动起停，加药，及冲洗，自动监测各种运行参数，并可实现运行参数的存储和打印。

　　功能

　　脱盐率高，运行压力低的进口超低卷式复合反渗透膜，产水水质优良，运行成本低廉，使用寿命长。

　　高效率，低噪音，品质优越的进口高压泵，减少能耗，降低运行噪声。

　　进口在线原水及产品水电导仪，PH表可随时监测水质情况。

　　进口在线产品水，浓水流量计可随时监测产品水量及系统回收率。

　　配置自动循环冲洗系统，以备膜污染后清洗之用。

　　快冲阀定时冲洗膜表面，降低膜污染速度，延长使用寿命。

　　降TOC紫外线 装置可有效降低TOC90%。

　　膜脱气装置可使脱气后水中溶解的氧DO小于5ppb。

　　运行参数

　　单机出力：0.5M3/h-120M3/h

　　脱盐率：反渗透系统98%

　　操作压力：1Mpa-1.2Mpa

　　回收率：60%-80%

　　产品出水电阴率：16-18MΩ.cm